电镀工艺条件与高饱和磁感应CoNiFe软磁薄膜的性能

	电镀工艺条件与高饱和磁感应CoNiFe软磁薄膜的性能
	邓福铭 1; 雷仁贵 1; 赵国刚 1; 王振廷 1; 方光旦 2
	2006
发表期刊	有色金属
ISSN	1001-0211
卷号	58.0 期号:1.0 页码:35
摘要	研究电沉积钴镍铁合金工艺条件如电流密度、pH和温度以及镀层厚度对膜层性能的影响。用振动样品磁强计测试膜层的矫顽力Hc、磁化强度Ms及磁滞回线，用高频电感法测试膜层的磁导率μi，用四探针法测试膜层的电阻率ρ。结果表明，膜层的电磁性能与镀覆工艺条件相关，在最佳镀覆工艺条件下（电流密度10mA／cm^2。pH=2.8．施镀温度25℃，时间10min）所得合金镀层光亮、致密，有较好电磁特性，Bs达1．9T，矫顽力Hc为1.15Oe。电阻率为45μΩ·cm。在1MHz下磁导率μi为602。
关键词	金属材料高Bs软磁膜电沉积钴镍铁合金
语种	英语
文献类型	期刊论文
条目标识符	http://119.78.100.204/handle/2XEOYT63/35870
专题	中国科学院计算技术研究所期刊论文_中文
作者单位	1.中国矿业大学材料科学与工程系 2.中国科学院计算技术研究所
推荐引用方式 GB/T 7714	邓福铭,雷仁贵,赵国刚,等. 电镀工艺条件与高饱和磁感应CoNiFe软磁薄膜的性能[J]. 有色金属,2006,58.0(1.0):35.
APA	邓福铭,雷仁贵,赵国刚,王振廷,&方光旦.(2006).电镀工艺条件与高饱和磁感应CoNiFe软磁薄膜的性能.有色金属,58.0(1.0),35.
MLA	邓福铭,et al."电镀工艺条件与高饱和磁感应CoNiFe软磁薄膜的性能".有色金属 58.0.1.0(2006):35.