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Fe—N软磁薄膜的结构和性能
周剑平1; 李丹1; 顾有松1; 赵春生1; 常香荣1; 李福燊1; 乔利杰1; 田中卓1; 方光旦2; 宋庆山2
2002
发表期刊中国科学:A辑
ISSN1006-9232
卷号32.0期号:002页码:132
摘要用RF溅射制备厚度为200nm的Fe-N薄膜在250℃,1200A/m磁场下真空热处理后,当N含量在5%-7%(原子百分数)范围内形成α′+α′相时,4πMS可达2.4T,Hc<80A/m,2-10MHz下高频相对导磁率μr=1500,可满足针对10G b/in^2存储密度的GMR/感应式复合读写磁头中写入磁头的需要。Fe-N系薄膜中α′相的形成机理和点阵常数与块状试样按Bain机理形成的α′相有明显的差别,得到了薄膜中α′相的a,c与CN^α′之间的线性关系式。
关键词Fe-N系 磁性薄膜 软磁薄膜 结构 性能 硬盘 磁头材料
语种英语
文献类型期刊论文
条目标识符http://119.78.100.204/handle/2XEOYT63/26809
专题中国科学院计算技术研究所期刊论文_中文
作者单位1.北京科技大学材料物理系
2.中国科学院计算技术研究所
推荐引用方式
GB/T 7714
周剑平,李丹,顾有松,等. Fe—N软磁薄膜的结构和性能[J]. 中国科学:A辑,2002,32.0(002):132.
APA 周剑平.,李丹.,顾有松.,赵春生.,常香荣.,...&宋庆山.(2002).Fe—N软磁薄膜的结构和性能.中国科学:A辑,32.0(002),132.
MLA 周剑平,et al."Fe—N软磁薄膜的结构和性能".中国科学:A辑 32.0.002(2002):132.
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